第183章 招揽浸润光刻机之父林苯坚(第2页)

 “他的名字叫做林苯坚！”

 陈浩说出了他的目的。

 “林苯坚？”

 “这个人是谁啊？”

 “你为什么要招揽他？”

 邱淑侦一脸的好奇。

 “林苯坚是一个十分厉害的高科技人才！”

 “他是我们华夏宝岛人！”

 “他在1963年，获得了宝岛大学电机工程学系学士！”

 “1970年，他获得了鹰国俄亥俄州立大学电机工程学系博士！”

 “博士毕业以后，他进入了iBm公司工作！”

 “从普通的研究员干起，一直干到现在的研发经理！”

 “自从他当上研发经理以后，他带着研发团队发明出许多世界第一的专利！”

 陈浩将林苯坚的基本情况说了出来。

 如果没有他的出现，林苯坚将会在2000年，加入宝岛的宝积电，成为宝积电的技术骨干，是宝积电‘研发六骑士’之一！

 林苯坚最大的贡献就是发明了‘浸润式微影技术’，成为‘浸润光刻机之父’！

 其实，光刻机巨头AsmL之所以能够发展起来，成为世界上首屈一指的光刻机巨头，最主要的原因恐怕就是林苯坚发明的‘浸润式微影技术’！

 依照摩尔定律，每经过18至24个月的时间，在成本保持不变的情况下，芯片上的晶体管数量便会翻倍，性能亦会实现飞跃式的提升。

 然而，这一规律在20世纪90年代却遇到了前所未有的挑战。

 当时，尽管樱花国和鹰国的光刻机企业众多，但它们却共同陷入了一片困境。

 原因就在于光刻机的光源波长始终无法突破193nm的瓶颈，无法再进一步缩短。

 在半导体制造的领域里，光源波长的缩短直接关联着芯片制程的先进性。

 樱花国的呢康公司主张采用157纳米f2激光技术，而由鹰国主导的euv联盟则力推使用极紫外光技术，其光源波长仅十几纳米。

 然而，当时的技术瓶颈使得这两种先进方案都难以实现。

 因此，全球半导体行业在这一时期仿佛陷入了停滞不前的状态。

 就在这个关键时刻，林苯坚走进了人们的视线。